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    真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。為了滿足更安全、更節(jié)能、降低噪聲、減少污染物排放的要求，在表面處理工藝上，真空電鍍已經(jīng)成為環(huán)保新趨勢(shì)。與一般的電鍍不同，真空電鍍更加環(huán)保，同時(shí)，真空電鍍可以生產(chǎn)出普通電鍍無(wú)法達(dá)到的光澤度很好的黑色效果。真空電鍍使用特點(diǎn)主要有哪些？

真空電鍍

    1、真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um)，能夠嚴(yán)格復(fù)制出啤件表面的形。

    2、工作電壓不是很高(200V)，操作方便，但設(shè)備較昂貴。

    3、蒸鍍鍋瓶容積小，電鍍件出數(shù)少，生產(chǎn)效率較低。

    4、只限于比鎢絲熔點(diǎn)低的金屬(如鋁、銀、銅、金等)鍍飾。

    5、對(duì)鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來彌補(bǔ)工件表面缺陷。

    6、真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS、PE、PP、PVC、PA、PC、PMMA等。