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真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象，就是在真空狀態(tài)注入ya氣，ya氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層，真空電鍍的優(yōu)點就是，做出來的產(chǎn)品金屬感強，亮度高，而相對其他的鍍膜做法來說，成本較低，對環(huán)境的污染小，現(xiàn)在被各行各業(yè)廣泛使用。

真空電鍍

真空電鍍原理：? 一般而言，鍍膜在真空鍍膜機內(nèi)以真空度?1~5?x?10?-4?Torr程度進(jìn)行?(1?Torr?=?1?公厘水銀柱高的壓力，大氣壓為?760?Torr)。其鍍膜膜厚約為?0.1?~?0.2?微米。顏? 如果鍍膜在特定厚度以下時（即太薄），面油對底油將會產(chǎn)生侵蝕、引起化學(xué)變化（如表面霧化等）。如鍍膜過厚時，會產(chǎn)生白化的狀態(tài)。?關(guān)于鍍膜的形成，首先利用強大電流將鍍膜源?(鎢絲)?加熱，然后把掛在鎢絲上的鋁片或鋁線熔解。鋁材從而蒸發(fā)、飛散到各方面并附著于被鍍件上。熔解的鋁為鋁原子，以不定形或液體狀態(tài)存在并附著于被鍍件上，經(jīng)冷卻結(jié)晶后從而變?yōu)殇X薄膜。??? 

因此設(shè)定鎢絲為定數(shù)時，由真空度至蒸發(fā)鋁的飛散方向、鎢絲的溫度，鎢絲到被鍍件的距離等；依其鍍膜條件，鍍膜的性能也除著改變而發(fā)生變化。?一如前述，鍍膜在10?–4?Torr左右下進(jìn)行，如真空度過低時，其蒸發(fā)中的鋁遇到殘留的氣體或者碰著鎢絲被加熱時產(chǎn)生的氣體，發(fā)生沖突而冷卻，形成的鋁粒?(非常小的鋁粒子集合體)?會附著于被鍍膜件上。

此時所形成的鍍膜因微細(xì)鋁粒中可能仍含有殘留氣體而令其失去光澤，也會大大降低鍍膜與底油的密著性。?如真空度高，而且鎢絲的溫度亦高時，蒸發(fā)鋁的運動能量也因此會提高，被鍍膜件表面所附著的會是純鋁?(并沒有殘留氣體)，而且密度非常高，鍍膜性能因此而得到提升?(包括密著性等)。