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真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象，就是在真空狀態(tài)注入ya氣，ya氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層，真空電鍍的優(yōu)點就是，做出來的產品金屬感強，亮度高，而相對其他的鍍膜做法來說，成本較低，對環(huán)境的污染小，現(xiàn)在被各行各業(yè)廣泛使用。

真空電鍍

真空電鍍原理：? 一般而言，鍍膜在真空鍍膜機內以真空度?1~5?x?10?-4?Torr程度進行?(1?Torr?=?1?公厘水銀柱高的壓力，大氣壓為?760?Torr)。其鍍膜膜厚約為?0.1?~?0.2?微米。顏? 如果鍍膜在特定厚度以下時（即太?。嬗蛯Φ子蛯a生侵蝕、引起化學變化（如表面霧化等）。如鍍膜過厚時，會產生白化的狀態(tài)。?關于鍍膜的形成，首先利用強大電流將鍍膜源?(鎢絲)?加熱，然后把掛在鎢絲上的鋁片或鋁線熔解。鋁材從而蒸發(fā)、飛散到各方面并附著于被鍍件上。熔解的鋁為鋁原子，以不定形或液體狀態(tài)存在并附著于被鍍件上，經冷卻結晶后從而變?yōu)殇X薄膜。??? 

因此設定鎢絲為定數(shù)時，由真空度至蒸發(fā)鋁的飛散方向、鎢絲的溫度，鎢絲到被鍍件的距離等；依其鍍膜條件，鍍膜的性能也除著改變而發(fā)生變化。?一如前述，鍍膜在10?–4?Torr左右下進行，如真空度過低時，其蒸發(fā)中的鋁遇到殘留的氣體或者碰著鎢絲被加熱時產生的氣體，發(fā)生沖突而冷卻，形成的鋁粒?(非常小的鋁粒子集合體)?會附著于被鍍膜件上。

此時所形成的鍍膜因微細鋁粒中可能仍含有殘留氣體而令其失去光澤，也會大大降低鍍膜與底油的密著性。?如真空度高，而且鎢絲的溫度亦高時，蒸發(fā)鋁的運動能量也因此會提高，被鍍膜件表面所附著的會是純鋁?(并沒有殘留氣體)，而且密度非常高，鍍膜性能因此而得到提升?(包括密著性等)。