1. 功能、特點
多種薄膜沉積工藝兼容：磁控濺射/電子束蒸發(fā)/熱蒸發(fā)
旋轉(zhuǎn)樣品臺可加熱、可致冷、可加偏壓（可選）
射頻等離子清洗
智能操控界面及多種工藝流程控制
可自動保存工藝數(shù)據(jù)
離子源輔助沉積（可選）
Load-lock（可選）
膜層致密、均勻，性能優(yōu)異
高性價比
2. 可選膜層材料
金屬、氧化物、氮化物、陶瓷等；
3. 型號規(guī)格配置及性能
型號：ZPVD mate650系列
4. 適用行業(yè)
電子、光電、傳感器、智能汽車、機器人、新能源、航空航天；
5. 機型圖
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