ZPVD ultr系列真空鍍膜機(jī)
1. 簡介
ZPVD ultr系列薄膜沉積平臺(tái)是我公司專為前沿科學(xué)研究而研發(fā)的高性能超高真空薄膜沉積平臺(tái)， 多種UHV 超高真空薄膜沉積工藝、靈活的LOAD-LOCK功能、功能強(qiáng)大的軟件控制系統(tǒng)以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能，為您的科研工作提供了強(qiáng)大可靠的保障。
ZPVD ultr系列真空鍍膜機(jī)
2. 功能、特點(diǎn)
UHV真正的超高真空性能，極限真空度達(dá)6.67×10-8Pa；
優(yōu)異的抽真空性能，可選低溫泵或離子泵；
晶圓樣品尺寸*可達(dá)?200mm，支持多片樣品；
多種薄膜沉積工藝兼容：磁控濺射/電子束蒸發(fā)/熱蒸發(fā)；
優(yōu)化腔體設(shè)計(jì)，工藝維護(hù)更便捷；
旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可加熱、可冷卻、可加偏壓；
離子源輔助沉積（可選）
智能操控界面及多種工藝流程控制
可自動(dòng)保存工藝數(shù)據(jù)
膜層更致密、均勻，純度更高；
高性能
3. 可選膜層材料
金屬、氧化物、氮化物、陶瓷等；
4. 型號(hào)規(guī)格及性能
5. 應(yīng)用
超導(dǎo)材料
約瑟夫森結(jié)
自旋電子學(xué)薄膜
巨磁電阻 （GMR）
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)（磁性薄膜）
磁性隧道結(jié)
納米器件
光學(xué)薄膜和光子學(xué)
有機(jī)薄膜
