1. 簡(jiǎn)介
ZPVD plas系列機(jī)型是我公司開(kāi)發(fā)的高性能科研鍍膜機(jī)，是以先進(jìn)設(shè)計(jì)理念建立的標(biāo)準(zhǔn)化可擴(kuò)展薄膜沉積平臺(tái)。模塊化真空腔室設(shè)計(jì)，高品質(zhì)真空部件，搭配標(biāo)準(zhǔn)及可訂制工藝源（磁控濺射/電子束/熱蒸發(fā)），結(jié)合客戶工藝，在控制最優(yōu)成本下，可極大縮減交付周期。
上海子微強(qiáng)大的工程團(tuán)隊(duì)依托ZPVD plas機(jī)型可隨時(shí)提供專屬于您的薄膜工藝解決方案，設(shè)備的成套方案設(shè)計(jì)、電氣系統(tǒng)開(kāi)發(fā)、測(cè)試程序開(kāi)發(fā)、特定的拓展模塊接口、定制開(kāi)發(fā)服務(wù)，為您實(shí)現(xiàn)高真空下電子束、磁控濺射、離子源、熱阻以及K-cell等薄膜沉積工藝提供全方位的服務(wù)與支持，為您的科研工作帶來(lái)無(wú)限拓展空間，是新材料、新器件、新能源等領(lǐng)域的科研首選。
2. 功能、特點(diǎn)
多種薄膜沉積工藝兼容：磁控濺射/電子束蒸發(fā)/熱蒸發(fā)，可升級(jí)反應(yīng)濺射工藝
模塊化腔體，工藝搭配組合便捷
旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可加熱、可冷卻、可加偏壓
射頻等離子清洗
智能操控界面及多種工藝流程控制
可自動(dòng)保存工藝數(shù)據(jù)
離子源輔助沉積（可選）
Load-lock可選
膜層致密、均勻，性能優(yōu)異
高性能平臺(tái)
3. 可選膜層材料
金屬、氧化物、氮化物、陶瓷等；
4. 型號(hào)規(guī)格及性能
項(xiàng)目 | 規(guī)格 | *數(shù)量 | 可選項(xiàng) | ||
ZP plas 100 | ZP plas 200 | ||||
工 藝 源 | 濺射陰極 | 2、3、4吋 | 4 | 6 | 選配強(qiáng)磁陰極 |
電子束蒸發(fā) | 4、6穴位，10kw | 1 | 1 | ||
熱蒸發(fā) | 2、4吋單舟 | 4 | 6 | ||
電源 | DC、PDC、RF | 根據(jù)工藝 | 根據(jù)工藝 | ||
樣品臺(tái) | ≤150mm，2～6'' | ≤200mm，2～8'' | 旋轉(zhuǎn)加熱冷卻 | ||
偏壓 | 1000W | 1臺(tái) | 1臺(tái) | 選配 | |
射頻清洗 | 500W RF | 1臺(tái) | 1臺(tái) | 選配 | |
離子源 | 500W | 1臺(tái) | 1臺(tái) | 選配 | |
Load-lock | *行程1500mm | 1個(gè) | 1個(gè) | 選配 | |
抽氣速度 | 大氣到5.0×10-3Pa | 25min | |||
膜層均勻性 | ±5% | ||||
漏率 | 2.0×10-9Pa·L/S | ||||
5. 適用行業(yè)
電子、光電、傳感器、半導(dǎo)體、智能汽車、機(jī)器人、新能源、航空航天；
6. 機(jī)型圖
